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详细信息
应用领域： CVD系列真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.
产品特点： CVD系列真空气氛管式炉专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体, CVD系列真空气氛管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
技术指标：
设备型号
CVD（D）-06/60/3CVD（Z）-06/30/1CVD（G）-07/50/2CVD（G）-09/50/1***高温度
1050℃1300℃1650℃/1000℃1650℃使用温度
RT—1000℃850-1300℃1000-1600℃1000-1600℃控制精度
±1.5℃±1.5℃±1.5℃±1.5℃温区个数
3个1个2个1个加热区长度
600mm300mm500mm(300mm/200mm)500mm炉管尺寸
ф60（外径）×1400（mm）ф60（外径）×1000（mm）ф70（外径）×1450（mm）ф90（外径）×1450（mm）炉管材料
石英管刚玉管刚玉管刚玉管发热元件
进口电阻丝电阻丝/硅碳棒硅钼棒、电阻丝硅钼棒***大装机功率
4.5KW3kw/8kw10kw12kwCVD-□□□
选件功能
/□/□V真空系列：单级机械泵+扩散泵机组Q气氛系统：浮子流量计；进口/国产质量流量计具体工艺参数请登陆合肥日新高温技术有限公司企业门户
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- 产品型号：CVD系列
- 品 牌：日新高温
- 所 在 地：安徽
- 更新日期：2024-05-16
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